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大疆神秘口袋新品曝光:Pocket 2来了!

2021-02-28 16:58:59      点击:780

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神秘来源:FX168FX168财经报社(北美)讯 因对新冠疫情挥之不去的的担忧抵消了美国未来几周出台经济刺激计划的希望,口袋欧股周一(10月19日)全线收低。

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泛欧斯托克600指数收盘下跌1.04点,新品跌幅0.28%,报366.44点。其中化工类股领跌,跌幅0.9%,金融服务类股上涨1%;德国DAX30指数收盘下跌54.33点,曝光跌幅0.42%,报12854.66点;英国富时100指数收盘下跌34.93点,大疆跌幅0.59%,报5884.65点;

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法国CAC40指数收盘下跌5.88点,神秘跌幅0.12%,报4929.98点;欧洲斯托克50指数收盘下跌4.02点,口袋跌幅0.12%,报3241.45点;

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西班牙IBEX35指数收盘上涨3.30点,新品涨幅0.05%,报6853.00点;

意大利富时MIB指数收盘下跌15.47点,曝光跌幅0.08%,报19374.21点。首先是曝光光源的更新换代。从最初的436纳米波长光源,大疆到DUV(深紫外)所用的248纳米和193纳米波长,大疆再到目前最顶级的EUV(极紫外)13.5纳米波长,光源波长不断缩小,曝光能够获得的分辨率自然不断提高。如果从使用光源来看,光刻机的发展主要经历了5代,类似于一个面条机从1.0到5.0的版本。

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20世纪六七十年代,新品接触式光刻机是集成电路制造的主流设备。这种机器曝光过程中掩膜版与硅片上的光刻胶直接接触,新品优点是可以减小光的衍射效应,缺点是会污染损坏掩膜版和光刻胶,缩短掩膜版使用寿命,且极易形成图形缺陷,影响良率。为了解决上述问题,曝光20世纪70年代开始采用接近式光刻机。这种光刻机在掩膜版和硅片之间有微小间距,曝光由于掩膜版和硅片间距越小,光刻工艺的分辨率越高,当二者间距接近几十微米时,就很难再减小,而且会受衍射效应的影响。

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